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                    聚焦離子束掃描電子顯微鏡系統的原理和功能介紹

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                    聚焦離子束掃描電子顯微鏡(Focused Ion Beam-Scanning Electron Microscope,簡稱FIB-SEM)雙束系統是指同時具備聚焦離子束(FIB)和掃描電子顯微鏡(SEM)功能的系統。

                    系統原理:首先離子源產生離子束被聚光鏡匯聚為極細的聚焦離子束,聚焦離子束通過控制線圈控制對指定的位置進行加工刻蝕;電子源產生電子束被聚光鏡匯聚為極細的聚焦電子束,聚焦電子束通過掃描線圈對樣品進行掃描,獲得各個被加工位置的實時圖像,從而實現對加工過程的實時監控。

                    聚焦離子束掃描電子顯微鏡主要功能包括:

                    ①電子束成像,用于定位樣品、獲取微觀結構和監測加工過程;

                    ②離子束刻蝕,用于截面觀察和圖形加工;

                    ③氣體沉積,用于圖形加工和樣品制備;

                    ④顯微切割制備微米大小納米厚度的超薄片試樣(厚度小于<100 nm),用于后續的TEM和同步輻射STXM等相關分析;

                    ⑤顯微切割制備納米尺寸的針尖狀樣品,用于后續的APT分析,獲取其微量元素和同位素信息;

                    ⑥綜合SEM成像、FIB切割及EDXS化學分析,對試樣進行微納尺度的三維重構分析等。

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